リソグラフィ限界を超えた制御性の良いシリコンナノデバイスの作製に関する研究

書誌事項

リソグラフィ限界を超えた制御性の良いシリコンナノデバイスの作製に関する研究

研究代表者、平本俊郎

平本俊郎, 2000.3

タイトル別名

平成10年度〜平成11年度科学研究費補助金(基盤研究(B)(2)一般)研究成果報告書

文部省科学研究費補助金(基盤研究(B)(2)一般)研究成果報告書

タイトル読み

リソグラフィ ゲンカイ オ コエタ セイギョセイ ノ ヨイ シリコンナノ デバイス ノ サクセイ ニ カンスル ケンキュウ

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注記

研究分担者: 鳳紘一郎、藤島実

詳細情報

  • NII書誌ID(NCID)
    BA49221697
  • 出版国コード
    ja
  • タイトル言語コード
    jpn
  • 本文言語コード
    jpneng
  • 出版地
    [東京]
  • ページ数/冊数
    65p
  • 大きさ
    30cm
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