界面制御によるシリコン基板上への強誘電体薄膜のヘテロエピタキシャル成長/ 研究代表者 堀田將

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界面制御によるシリコン基板上への強誘電体薄膜のヘテロエピタキシャル成長/ 研究代表者 堀田將

[堀田將], 1999.4

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平成9年度〜10年度科学研究費補助金(基礎研究(B))研究成果報告書

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カイメン セイギョ ニヨル シリコン キバンジョウ エノ キョウ ユウデンタイ ハクマク ヘテロエピタキシャル セイチョウ

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Details

  • NCID
    BA54035625
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    jpn
  • Text Language Code
    jpneng
  • Place of Publication
    [辰口町(石川県)]
  • Pages/Volumes
    1冊
  • Size
    30cm
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