析出面の高温マスキングによるSiCウイスカーの成長制御に関する反応工学的研究

書誌事項

析出面の高温マスキングによるSiCウイスカーの成長制御に関する反応工学的研究

堀尾正靭研究代表者

堀尾正靭, 1992.4

タイトル別名

科学研究費補助金(一般研究(C))研究成果報告書 : 平成3年度

タイトル読み

セキシュツメン ノ コウオン マスキング ニ ヨル SiC ウイスカー ノ セイチョウ セイギョ ニ カンスル ハンノウ コウガクテキ ケンキュウ

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注記

[課題番号] : 02650703

詳細情報

  • NII書誌ID(NCID)
    BA55738074
  • 出版国コード
    ja
  • タイトル言語コード
    jpn
  • 本文言語コード
    jpn
  • 出版地
    [小金井]
  • ページ数/冊数
    29p
  • 大きさ
    26cm
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