はじめての半導体洗浄技術

著者

• 小川, 洋輝 オガワ, ヒロキ
• 堀池, 靖浩 ホリイケ, ヤスヒロ

書誌事項

はじめての半導体洗浄技術

小川洋輝, 堀池靖浩著

（ビギナーズブックス, 23）

工業調査会, 2002.3

タイトル読み

ハジメテ ノ ハンドウタイ センジョウ ギジュツ

注記

参考文献: 各章末

内容説明・目次

内容説明

超ＬＳＩはクリーンネスとの闘いである。どんなにすぐれた設計・プロセス技術を用いても、プロセス、環境面でのクリーン化技術に問題点があるようでは期待通りの超ＬＳＩは生まれない。その技術の一つに洗浄技術がある。本書では半導体洗浄技術の全貌について、技術の位置づけ、歴史、基礎的事項、具体的手法、評価法、今後の展望までを詳細に解説している。

目次

• 第１章　シリコン集積回路と洗浄技術の概略史
• 第２章　ウェハ上の汚染物および表面状態がデバイスへ及ぼす影響
• 第３章　従来の洗浄技術—ＲＣＡ洗浄法を中心に
• 第４章　ウェハ表面への汚染物の付着およびその洗浄機構
• 第５章　新しい洗浄法—脱ＲＣＡ洗浄を目指して
• 第６章　ウェット洗浄装置
• 第７章　ドライ洗浄法
• 第８章　ウェハ表面の汚染物の評価方法
• 第９章　洗浄技術の課題と今後の展望

「BOOKデータベース」 より

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BA56225847
• ISBN:
  • 4769312121
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpn
• 出版地: 東京
• ページ数/冊数: 276p
• 大きさ: 21cm
• 分類:
  • NDC8 : 549.8
  • NDC9 : 549.8
• 件名:
  • BSH : 半導体
  • BSH : 洗浄法
• 親書誌ID:
  • BA38795526