次世代超高密度デバイス用極薄絶縁膜の開発

著者

    • 尾嶋正治 オシマ, マサハル

書誌事項

次世代超高密度デバイス用極薄絶縁膜の開発

研究代表者 尾嶋正治

尾嶋正治, 2001.3

タイトル別名

平成10年度〜平成12年度科学研究費補助金(基盤研究(B)(2))研究成果報告書

文部省科学研究費補助金(基盤研究(B)(2))研究成果報告書

タイトル読み

ジセダイ チョウ コウミツド デバイスヨウ ゴクウス ゼツエンマク ノ カイハツ

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注記

研究者: 藤岡洋,小野寛太,大渕博宣

詳細情報

  • NII書誌ID(NCID)
    BA56290940
  • 出版国コード
    ja
  • タイトル言語コード
    jpn
  • 本文言語コード
    engjpn
  • 出版地
    [東京]
  • ページ数/冊数
    1冊
  • 大きさ
    29cm
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