反応性エピタキシャル成長によるCoSi2/Si(100)ヘテロ構造形成の研究

著者

• 財満, 鎭明 ザイマ, シゲアキ

書誌事項

反応性エピタキシャル成長によるCoSi2/Si(100)ヘテロ構造形成の研究

財満鎭明[ほか著]

[出版者不明], 2002.3

タイトル別名

平成11年度〜13年度科学研究費補助金(基盤研究B2)研究成果報告書

タイトル読み

ハンノウセイ エピタキシャル セイチョウ ニヨル CoSi2/Si(100) ヘテロ コウゾウ ケイセイ ノ ケンキュウ

注記

課題番号:11450010

研究分担者: 安田幸夫, 池田浩也

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BA58283119
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpn
• 出版地: [出版地不明]
• ページ数/冊数: 110p
• 大きさ: 30cm