新しいレジスト材料とナノテクノロジー

著者

• 山岡, 亜夫 ヤマオカ, ツグオ

書誌事項

新しいレジスト材料とナノテクノロジー

シーエムシー出版, 2002.9

タイトル別名

New polymer resist and nano technology

タイトル読み

アタラシイ レジスト ザイリョウ ト ナノテクノロジー

注記

監修: 山岡亞夫

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BA59535465
• ISBN:
  • 4882313677
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpn
• 出版地: 東京
• ページ数/冊数: vi,253p
• 大きさ: 27cm
• 分類:
  • NDC8 : 549.7
  • NDC9 : 549.7
• 件名:
  • BSH : リソグラフィー
  • BSH : ナノテクノロジー