プラズマ半導体プロセス工学 : 成膜とエッチング入門
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プラズマ半導体プロセス工学 : 成膜とエッチング入門
内田老鶴圃, 2003.7
- タイトル読み
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プラズマ ハンドウタイ プロセス コウガク : セイマク ト エッチング ニュウモン
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内容説明・目次
内容説明
本書は、プラズマプロセスの基礎を学ぼうとする大学生や大学院生、あるいは企業や研究機関において半導体プロセスに携わる開発者や研究者を対象に、プラズマＣＶＤとエッチング技術の基礎を整理、解説したものである。
目次
- 第１章 プラズマと半導体プロセス
- 第２章 半導体プロセス用プラズマの基礎
- 第３章 半導体プロセス装置の概要
- 第４章 プラズマＣＶＤ技術
- 第５章 薄膜の評価方法
- 第６章 プラズマエッチング技術
- 第７章 付章 プロセシングプラズマを理解するための基礎理論
「BOOKデータベース」 より