Pulsed and pulsed bias sputtering : principles and applications

著者

• Barnat, Edward V.
• Lu, T.-M. (Toh-Ming)

書誌事項

Pulsed and pulsed bias sputtering : principles and applications

by Edward V. Barnat, Toh-Ming Lu

Kluwer Academic, c2003

注記

Includes bibliographical references ( p. [149]-155) and index

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BA65099889
• ISBN:
  • 140207543X
• LCCN: 2003054987
• 出版国コード: us
• タイトル言語コード: eng
• 本文言語コード: eng
• 出版地: Boston
• ページ数/冊数: x, 155 p.
• 大きさ: 25 cm
• 分類:
  • LCC : TS695
  • DC21 : 621.3815/2
• 件名:
  • LCSH : Cathode sputtering (Plating process)
  • LCSH : Thin films