液体原料気化CVD法による誘電体薄膜の製造とプロセスシミュレータの開発

著者

• 奥山, 喜久夫 オクヤマ, キクオ

書誌事項

液体原料気化CVD法による誘電体薄膜の製造とプロセスシミュレータの開発

研究代表者 奥山喜久夫

（科学研究費補助金(基盤研究(B)(2))研究成果報告書, 平成12年度〜平成14年度）

広島大学大学院工学研究科, 2003.3

タイトル読み

エキタイ ゲンリョウ キカ CVDホウ ニ ヨル ユウデンタイ ハクマク ノ セイゾウ ト プロセスシミュレータ ノ カイハツ

注記

課題番号: 12450319

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BA65186542
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpneng
• 出版地: 東広島
• ページ数/冊数: 71p
• 大きさ: 30cm
• 親書誌ID:
  • BA30193701