2003 8th International Symposium on Plasma- and Process-Induced Damage, April 24-25, 2003, Corbeil-Essonnes, France
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書誌事項
2003 8th International Symposium on Plasma- and Process-Induced Damage, April 24-25, 2003, Corbeil-Essonnes, France
IEEE Operations Center, c2003
- タイトル別名
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P2ID
03TH8669
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注記
"P2ID"-- on cover
"IEEE Catalog Number 03TH8669" -- T.p. verso
Includes bibliographical references
内容説明・目次
内容説明
This text covers topics including; damage mechanism and modelling; antenna effect and process monitoring; high-K gate dielectric; and integration.
「Nielsen BookData」 より