ヘテロエピタキシャルダイヤモンド薄膜の合成と新規半導体化プロセスの開発

書誌事項

ヘテロエピタキシャルダイヤモンド薄膜の合成と新規半導体化プロセスの開発

研究代表者 諸岡成治

(科学研究費補助金(基盤研究(A)(2))研究成果報告書, 平成7年度〜平成8年度)

[九州大学], 1997.2

タイトル別名

平成7年度〜平成8年度科学研究費補助金(基盤研究(A)(2))研究成果報告書 07555240

タイトル読み

ヘテロ エピタキシャル ダイヤモンド ウスマク ノ ゴウセイ ト シンキ ハンドウタイカ プロセス ノ カイハツ

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注記

研究分担者:草壁克己ほか

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詳細情報

  • NII書誌ID(NCID)
    BA67942599
  • 出版国コード
    ja
  • タイトル言語コード
    jpn
  • 本文言語コード
    jpneng
  • 出版地
    [福岡]
  • ページ数/冊数
    90p
  • 大きさ
    30cm
  • 親書誌ID
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