シリコン熱酸化の界面素過程に関する理論的研究 Theoretical studies on the basic processes of Si Thermal Oxydation
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書誌事項
シリコン熱酸化の界面素過程に関する理論的研究 = Theoretical studies on the basic processes of Si Thermal Oxydation
（科学研究費補助金基盤研究(C)(2)研究成果報告書, 平成14-15年度）
白石賢二, 2004.5
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シリコン ネツサンカ ノ カイメン ソカテイ ニ カンスル リロンテキ ケンキュウ
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注記
研究課題番号: 14550020
研究代表者: 白石賢二
