低誘電率・高絶縁耐力プラズマ堆積CxFy膜を用いたSF[6]代替絶縁方式の開発

著者

• 酒井, 洋輔 サカイ, ヨウスケ

書誌事項

低誘電率・高絶縁耐力プラズマ堆積CxFy膜を用いたSF[6]代替絶縁方式の開発

研究代表者 酒井洋輔

（科学研究費補助金(基盤研究(B)(2))研究成果報告書, 平成13年度〜平成15年度）

[北海道大学大学院工学研究科], 2004.3

タイトル別名

低誘電率・高絶縁耐力プラズマ堆積CxFy膜を用いたSF[6]代替絶縁方式の開発

タイトル読み

テイユウデンリツ コウゼツエン タイリョク プラズマ タイセキ CxFyマク オ モチイタ SF[6] ダイタイ ゼツエン ホウシキ ノ カイハツ

注記

[6]は下付き文字

課題番号: 13555077

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BA68642943
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: engjpn
• 出版地: [札幌]
• ページ数/冊数: 1冊
• 大きさ: 30cm
• 親書誌ID:
  • BA30193701