光ナノテクノロジー : 近接場光学・微細加工の原理から最先端研究まで

著者

• 羽根, 一博 ハネ, カズヒロ
• 梅田, 倫弘 ウメダ, ノリヒロ

書誌事項

光ナノテクノロジー : 近接場光学・微細加工の原理から最先端研究まで

羽根一博, 梅田倫弘編著

アドスリー , 丸善株式会社出版事業部(発売), 2005.4

タイトル別名

光ナノテクノロジー : 近接場光学微細加工の原理から最先端研究まで

タイトル読み

ヒカリ ナノテクノロジー : キンセツバ コウガク ビサイ カコウ ノ ゲンリ カラ サイセンタン ケンキュウ マデ

注記

参考文献: 各論文末

内容説明・目次

内容説明

本書は、２０００年から２００３年の４年間にわたり組織した文部科学省特定領域研究「ナノ構造創成のための光メカトロニクス」の研究成果をわかりやすく記述し、関連する基礎を加えて、取りまとめたものです。本書では光技術とナノテクノロジーの融合分野を紹介します。光ナノテクノロジー分野に欠かせないマイクロマシン技術も述べられています。

目次

• 基礎編（光ナノテクノロジーの基礎１—光と物質の相互作用（光と原子；光と分子　ほか）；光ナノテクノロジーの基礎２—微細加工（微細加工の基礎；マイクロマシニングとは　ほか））
• 応用編（光ナノテクノロジーの先端１—近接場と光技術（ナノの光で原子で操る；近接場光メモリと単一分子光メモリ　ほか）；光ナノテクノロジーの先端２—微細加工とナノ構造（集積化マイクロ・ナノプローブ；立体的なシリコンマイクロマシニングと集積化技術　ほか））

「BOOKデータベース」 より

• NII書誌ID(NCID): BA71763593
• ISBN:
  • 4900659495
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpn
• 出版地: 東京,東京
• ページ数/冊数: 173p
• 大きさ: 26cm
• 分類:
  • NDC8 : 549.9
  • NDC9 : 549.95
• 件名:
  • BSH : オプトエレクトロニクス
  • BSH : ナノテクノロジー