Principles of plasma discharges and materials processing

著者

• Lieberman, M. A. (Michael A.)
• Lichtenberg, Allan J.

書誌事項

Principles of plasma discharges and materials processing

Michael A. Lieberman, Allan J. Lichtenberg

Wiley-Interscience, c2005

2nd ed

注記

Includes bibliographical references (p. 735-748) and index

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BA72469354
• ISBN:
  • 9780471720010
• LCCN: 2004058503
• 出版国コード: us
• タイトル言語コード: eng
• 本文言語コード: eng
• 出版地: Hoboken, N.J.
• ページ数/冊数: xxxv, 757 p.
• 大きさ: 25 cm
• 分類:
  • LCC : QC718.5.D9
  • DC22 : 530.4/4
• 件名:
  • LCSH : Plasma dynamics
  • LCSH : Thin films -- Surfaces
  • LCSH : Plasma etching
  • LCSH : Plasma chemistry -- Industrial applications