機器導体部のプラズマCVD絶縁膜 (CxFy高分子) によるSF[6]ガス代替絶縁

著者

• 酒井, 洋輔 サカイ, ヨウスケ

書誌事項

機器導体部のプラズマCVD絶縁膜 (CxFy高分子) によるSF[6]ガス代替絶縁

研究代表者 酒井洋輔

（科学研究費補助金(基盤研究(B)(2))研究成果報告書, 平成15年度〜平成16年度）

[北海道大学大学院工学研究科], 2005.3

タイトル読み

キキ ドウタイブ ノ プラズマ CVD ゼツエンマク CxFy コウブンシ ニヨル SF[6] ガス ダイタイ ゼツエン

注記

[6]は下付き文字

課題番号: 15360143

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BA73691675
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: engjpn
• 出版地: [札幌]
• ページ数/冊数: 1冊
• 大きさ: 30cm
• 親書誌ID:
  • BA30193701