Photomask fabrication technology

著者

• Eynon, Benjamin G
• Wu, Banqiu

書誌事項

Photomask fabrication technology

Benjamin G. Eynon, Jr., Banqiu Wu

（Electronic engineering series）

McGraw-Hill, c2005

注記

Includes bibliographical references and index

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BA74317798
• ISBN:
  • 0071445633
• LCCN: 2005047886
• 出版国コード: us
• タイトル言語コード: eng
• 本文言語コード: eng
• 出版地: New York
• ページ数/冊数: xi, 571 p.
• 大きさ: 24 cm
• 分類:
  • LCC : TK7872.M3
  • DC22 : 621.3815/31
• 件名:
  • LCSH : Integrated circuits -- Masks
  • LCSH : Masks (Electronics)
  • LCSH : Microlithography
• 親書誌ID:
  • BA14091733