Fabrication of GaAs devices
著者
書誌事項
Fabrication of GaAs devices
(EMIS processing series / Series advisor B.L. Weiss, no. 6)
Institution of Electrical Engineers, c2005
大学図書館所蔵 全2件
  青森
  岩手
  宮城
  秋田
  山形
  福島
  茨城
  栃木
  群馬
  埼玉
  千葉
  東京
  神奈川
  新潟
  富山
  石川
  福井
  山梨
  長野
  岐阜
  静岡
  愛知
  三重
  滋賀
  京都
  大阪
  兵庫
  奈良
  和歌山
  鳥取
  島根
  岡山
  広島
  山口
  徳島
  香川
  愛媛
  高知
  福岡
  佐賀
  長崎
  熊本
  大分
  宮崎
  鹿児島
  沖縄
  韓国
  中国
  タイ
  イギリス
  ドイツ
  スイス
  フランス
  ベルギー
  オランダ
  スウェーデン
  ノルウェー
  アメリカ
注記
Includes bibliographical references and index
内容説明・目次
内容説明
This book provides fundamental and practical information on all aspects of GaAs processing and gives pragmatic advice on cleaning and passivation, wet and dry etching and photolithography. Other topics covered include device performance for HBTs (Heterojunction Bipolar Transistors) and FETs (Field Effect Transistors), how these relate to processing choices, and special processing issues such as wet oxidation, which are especially important in optoelectronic devices. This book is suitable for both new and practising engineers.
目次
Chapter 1: Introduction to GaAs devices
Chapter 2: Semiconductor properties, growth, characterisation and processing techniques
Chapter 3: Cleaning and passivation of GaAs and related alloys
Chapter 4: Wet etching and photolithography of GaAs and related alloys
Chapter 5: Dry etching of GaAs and related alloys
Chapter 6: Ohmic contacts
Chapter 7: Schottky contacts
Chapter 8: Field effect transistors
Chapter 9: Heterojunction bipolar transistors
Chapter 10: Wet oxidation for optoelectronic and MIS GaAs devices
「Nielsen BookData」 より