有機金属分子イオンビーム技術の高度化とSiCヘテロエピ成膜への応用

著者

    • 後藤, 誠一 ゴトウ, セイイチ

書誌事項

有機金属分子イオンビーム技術の高度化とSiCヘテロエピ成膜への応用

研究代表者 後藤誠一

[後藤誠一], 2003.3

タイトル別名

平成13〜14年度科学研究費補助金基盤研究(B)(2)研究成果報告書

タイトル読み

ユウキ キンゾク ブンシ イオン ビーム ギジュツ ノ コウドカ ト SiC ヘテロエピ セイマク エノ オウヨウ

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注記

研究課題番号: 13558055

詳細情報

  • NII書誌ID(NCID)
    BA75738113
  • 出版国コード
    ja
  • タイトル言語コード
    jpn
  • 本文言語コード
    jpneng
  • 出版地
    [吹田]
  • ページ数/冊数
    83p
  • 大きさ
    30cm
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