ステップ配列制御による完全ステップフリーシリコン/酸化膜界面の形成と評価
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書誌事項
ステップ配列制御による完全ステップフリーシリコン/酸化膜界面の形成と評価
[須藤孝一], 2002.3
- タイトル別名
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平成12年度〜平成13年度科学研究費補助金基盤研究(C)(2)研究成果報告書
- タイトル読み
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ステップ ハイレツ セイギョ ニヨル カンゼン ステップ フリー シリコン サンカマク カイメン ノ ケイセイ ト ヒョウカ
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注記
課題番号: 12650029