次世代極薄高誘電率ゲート絶縁膜中の不純物の挙動に関する理論的研究
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次世代極薄高誘電率ゲート絶縁膜中の不純物の挙動に関する理論的研究
（科学研究費補助金(基盤研究C)研究成果報告書, 平成16年度-17年度）
[白石賢二], 2006.5
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ジセダイ ゴクハク コウユウデンリツ ゲート ゼツエンマクチュウ ノ フジュンブツ ノ キョドウ ニ カンスル リロンテキ ケンキュウ
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注記
研究課題番号: 16560020
