クラスターイオンビーム基礎と応用 : 次世代ナノ加工プロセス技術

書誌事項

クラスターイオンビーム基礎と応用 : 次世代ナノ加工プロセス技術

山田公編著

日刊工業新聞社, 2006.10

タイトル別名

Cluster ion beam technology : advanced nano fabrication process

クラスターイオンビーム : 基礎と応用 : 次世代ナノ加工プロセス技術

タイトル読み

クラスター イオン ビーム キソ ト オウヨウ : ジセダイ ナノ カコウ プロセス ギジュツ

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内容説明・目次

内容説明

本書は、イオンビーム技術の発展を、その技術的背景もあわせて示しながら、イオンビーム技術に初めて接する初心者にもわかりやすく説明しています。

目次

  • 1 イオンビーム技術の概要(イオンの発見;イオンビーム技術の誕生 ほか)
  • 2 ガスクラスタービームの発生(ガスクラスタービームの発生の原理;ガスクラスターイオンビーム装置 ほか)
  • 3 クラスターイオンビームと固体表面相互作用(クラスターイオンの個体表面衝突現象;ガスクラスターイオンの照射効果の特長 ほか)
  • 4 ナノ加工プロセス応用(半導体デバイス応用;磁性・誘電体デバイス応用 ほか)
  • 5 産業用クラスターイオンビーム装置(ガスクラスターイオンビーム装置;デカボランイオン注入装置)

「BOOKデータベース」 より

詳細情報

  • NII書誌ID(NCID)
    BA79102802
  • ISBN
    • 4526057657
  • 出版国コード
    ja
  • タイトル言語コード
    jpn
  • 本文言語コード
    jpn
  • 出版地
    東京
  • ページ数/冊数
    xi, 223p
  • 大きさ
    21cm
  • 分類
  • 件名
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