入門フォトマスク技術 : LSI, FPD, PWB, MEMSのためのフォトマスク

著者

• 田辺, 功 タナベ, イサオ
• 竹花, 洋一 タケハナ, ヨウイチ
• 法元, 盛久 ホウガ, モリヒサ

書誌事項

入門フォトマスク技術 : LSI, FPD, PWB, MEMSのためのフォトマスク

田邉功, 竹花洋一, 法元盛久著

工業調査会, 2006.12

タイトル別名

Introduction to photomask technology

フォトマスク技術 : 入門 : LSI FPD PWB MEMSのためのフォトマスク

タイトル読み

ニュウモン フォト マスク ギジュツ : LSI FPD PWB MEMS ノ タメ ノ フォト マスク

注記

参考文献: 各章末

内容説明・目次

目次

• 第１章　フォトマスク技術の基本
• 第２章　半導体フォトマスク
• 第３章　電子部品用マスク
• 第４章　先端フォトマスク技術
• 第５章　ＮＧＬマスク技術
• 第６章　マスク産業の現状
• 第７章　リソグラフィ技術の今後とマスク技術の見通し

「BOOKデータベース」 より

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BA79886837
• ISBN:
  • 4769312598
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpn
• 出版地: 東京
• ページ数/冊数: 323p, 図版 [3] p
• 大きさ: 21cm
• 分類:
  • NDC8 : 549.7
  • NDC9 : 549.7
• 件名:
  • BSH : リソグラフィー
  • NDLSH : フォトマスク