ナノテクノロジーとレジスト材料
著者
書誌事項
ナノテクノロジーとレジスト材料
（CMCテクニカルライブラリー, 256）
シーエムシー出版, 2007.4
普及版
- タイトル別名
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新しいレジスト材料とナノテクノロジー
Nano technology and polymer resist
- タイトル読み
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ナノテクノロジー ト レジスト ザイリョウ
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注記
初版 (2002年) のタイトル: 新しいレジスト材料とナノテクノロジー
文献: 各章末
内容説明・目次
目次
- 第１編 トップダウンテクノロジー（ナノテクノロジーの概要—広がりゆくナノテクノロジー；ギガビットからテラビットを目指したリソグラフィーと材料；Ｘ線リソグラフィ；超微細加工におけるリソグラフィプロセスの限界）
- 第２編 広がりゆく微細化技術（高密度化するプリント配線技術と感光性樹脂；微細化するスクリーン印刷；デジタル化と印刷製版；ヘテロ系記録材料と特徴）
- 第３編 新しいレジスト材料（分子協調材料によるナノパターニング；走査プローブ顕微鏡のナノリソグラフィーへの応用；近接場光；表面反応；自己組織化；光プロセスと応用；ナノインプリントへの挑戦と応用分野）
「BOOKデータベース」 より
