書誌事項

EUV光源の開発と応用

豊田浩一, 岡崎信次監修

シーエムシー出版, 2007.2

タイトル別名

Development and application of extreme ultraviolet light source

エレクトロニクス材料・技術シリーズ

タイトル読み

EUV コウゲン ノ カイハツ ト オウヨウ

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注記

文献あり

カバーに「エレクトロニクス材料・技術シリーズ」の表記あり

内容説明・目次

目次

  • 第1編 EUV光源の開発(露光装置とEUVリソグラフィ;EUVリソグラフィ用光源プラズマ;プラズマ励起用高出力固体レーザー開発の現状;究極の変換効率の超微粒子広域分散型ターゲットレーザー生成プラズマX線源 ほか)
  • 第2編 EUVリソグラフィ用のマスクとレジスト技術(X線多層膜の物理;EUV用反射型マスク基板;EUV用マスク;EUVレジストの特異性と反応機構 ほか)

「BOOKデータベース」 より

詳細情報

  • NII書誌ID(NCID)
    BA83954282
  • ISBN
    • 9784882316664
  • 出版国コード
    ja
  • タイトル言語コード
    jpn
  • 本文言語コード
    jpn
  • 出版地
    東京
  • ページ数/冊数
    vi, 273p
  • 大きさ
    27cm
  • 分類
  • 件名
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