エレクトロニクス薄膜技術

Bibliographic Information

エレクトロニクス薄膜技術

白木靖寛監修

(CMCテクニカルライブラリー, 287)

シーエムシー出版, 2008.5

普及版

Other Title

次世代エレクトロニクス薄膜技術

Thin film technology for electronics

Title Transcription

エレクトロニクス ハクマク ギジュツ

Available at  / 57 libraries

Note

初版のタイトル: 次世代エレクトロニクス薄膜技術

Description and Table of Contents

Table of Contents

  • 第1章 薄膜作製技術の歴史と意義
  • 第2章 計算化学による結晶成長制御手法
  • 第3章 常圧プラズマCVD技術とその応用
  • 第4章 ラダー電極を用いたVHFプラズマ応用薄膜形成技術
  • 第5章 触媒化学気相堆積法とその応用
  • 第6章 コンビナトリアルテクノロジー—集積化薄膜技術による材料開発の革新
  • 第7章 パルスパワー技術と応用
  • 第8章 半導体薄膜の作製
  • 第9章 ナノ構造磁性薄膜の作製とスピントロニクスへの応用
  • 第10章 強誘電体薄膜の作製とメモリ素子への応用

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Details

  • NCID
    BA85943458
  • ISBN
    • 9784882319931
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    jpn
  • Text Language Code
    jpn
  • Place of Publication
    東京
  • Pages/Volumes
    v, 253p
  • Size
    21cm
  • Classification
  • Subject Headings
  • Parent Bibliography ID
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