エレクトロニクス薄膜技術

著者

• 白木, 靖寛 シラキ, ヤスヒロ

書誌事項

エレクトロニクス薄膜技術

白木靖寛監修

（CMCテクニカルライブラリー, 287）

シーエムシー出版, 2008.5

普及版

タイトル別名

次世代エレクトロニクス薄膜技術

Thin film technology for electronics

タイトル読み

エレクトロニクス ハクマク ギジュツ

注記

初版のタイトル: 次世代エレクトロニクス薄膜技術

内容説明・目次

目次

• 第１章　薄膜作製技術の歴史と意義
• 第２章　計算化学による結晶成長制御手法
• 第３章　常圧プラズマＣＶＤ技術とその応用
• 第４章　ラダー電極を用いたＶＨＦプラズマ応用薄膜形成技術
• 第５章　触媒化学気相堆積法とその応用
• 第６章　コンビナトリアルテクノロジー—集積化薄膜技術による材料開発の革新
• 第７章　パルスパワー技術と応用
• 第８章　半導体薄膜の作製
• 第９章　ナノ構造磁性薄膜の作製とスピントロニクスへの応用
• 第１０章　強誘電体薄膜の作製とメモリ素子への応用

「BOOKデータベース」 より

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BA85943458
• ISBN:
  • 9784882319931
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpn
• 出版地: 東京
• ページ数/冊数: v, 253p
• 大きさ: 21cm
• 分類:
  • NDC9 : 549.8
• 件名:
  • BSH : 薄膜
• 親書誌ID:
  • BA49949541