薄膜の基本技術

著者

• 金原, 粲 キンバラ, アキラ

書誌事項

薄膜の基本技術

金原粲著

東京大学出版会, 2008.7

第3版

タイトル別名

Introduction to fundamental thin film technologies

タイトル読み

ハクマク ノ キホン ギジュツ

注記

欧文タイトルは標題紙裏による

内容説明・目次

目次

• １　真空装置の基本（真空の必要性；基本的構成　ほか）
• ２　真空蒸着法（真空蒸着と基板；気体に関する基本的な法則と公式　ほか）
• ３　スパッタリング法（放電とプラズマ；放電プラズマの基礎　ほか）
• ４　膜厚測定法（膜厚とは：その多様性；膜厚の分類　ほか）
• ５　関連技術（ガラスその他の基板洗浄；電気抵抗測定　ほか）

「BOOKデータベース」 より

• NII書誌ID(NCID): BA86623394
• ISBN:
  • 9784130628402
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpn
• 出版地: 東京
• ページ数/冊数: xii, 227p
• 大きさ: 21cm
• 分類:
  • NDC8 : 549.8
  • NDC9 : 549.8
• 件名:
  • BSH : 薄膜