低誘電率・高絶縁耐力プラズマ堆積a-C:F膜による機器絶縁の軽量化と耐電圧向上

著者

• 酒井, 洋輔 サカイ, ヨウスケ

書誌事項

低誘電率・高絶縁耐力プラズマ堆積a-C:F膜による機器絶縁の軽量化と耐電圧向上

研究代表者 酒井洋輔

（科学研究費補助金(基盤研究(B))研究成果報告書, 平成17年度〜平成19年度）

[北海道大学大学院情報科学研究科], 2008.4

タイトル読み

テイユウデンリツ コウゼツエン タイリョク プラズマ タイセキ a-C:Fマク ニヨル キキ ゼツエン ノ ケイリョウカ ト タイデンアツ コウジョウ

注記

課題番号: 17360121

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BA87296453
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpneng
• 出版地: [札幌]
• ページ数/冊数: 1冊
• 大きさ: 30cm
• 親書誌ID:
  • BA31388455