低誘電率・高絶縁耐力プラズマ堆積a-C:F膜による機器絶縁の軽量化と耐電圧向上
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低誘電率・高絶縁耐力プラズマ堆積a-C:F膜による機器絶縁の軽量化と耐電圧向上
(科学研究費補助金(基盤研究(B))研究成果報告書, 平成17年度〜平成19年度)
[北海道大学大学院情報科学研究科], 2008.4
- タイトル読み
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テイユウデンリツ コウゼツエン タイリョク プラズマ タイセキ a-C:Fマク ニヨル キキ ゼツエン ノ ケイリョウカ ト タイデンアツ コウジョウ
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注記
課題番号: 17360121