製造プロセスで発生する付着および脱離の分子機構と洗浄操作の高効率化

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製造プロセスで発生する付着および脱離の分子機構と洗浄操作の高効率化

研究代表者:中西一弘

（科学研究費補助金(基盤研究A)研究成果報告書, 平成16-19年度）

中西一弘, 2008.3

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セイゾウ プロセス デ ハッセイ スル フチャク オヨビ ダツリ ノ ブンシ キコウ ト センジョウ ソウサ ノ コウコウリツカ

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Note

[課題番号]: 16206076

研究分担者: 今村維克, 今中洋行

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Details

  • NCID
    BA89282529
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    jpn
  • Text Language Code
    jpneng
  • Place of Publication
    [岡山]
  • Pages/Volumes
    231p
  • Size
    30cm
  • Classification
  • Parent Bibliography ID
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