フォトレジスト材料開発の新展開

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フォトレジスト材料開発の新展開

上田充監修

シーエムシー出版, 2009.8

Other Title

New trends of photoresists

エレクトロニクスシリーズ

Title Transcription

フォトレジスト ザイリョウ カイハツ ノ シンテンカイ

Access to Electronic Resource 1 items

Available at  / 9 libraries

Note

カバージャケットに「エレクトロニクスシリーズ」とあり

Description and Table of Contents

Table of Contents

  • リソグラフィ技術の概要
  • 光化学反応の基礎
  • 光酸発生剤
  • 従来型フォトレジスト—ｇ，ｉ線ノボラック系レジストを中心にして
  • ＫｒＦレジスト
  • ＡｒＦレジスト
  • ＡｒＦ液浸用レジスト
  • ダブルパターニング用材料
  • ＥＵＶレジスト
  • 電子線レジスト
  • 分子レジスト
  • 反射防止材料
  • ＵＶナノインプリント用材料
  • ブロック共重合体リソグラフィ

by "BOOK database"

Details

  • NCID
    BA91428274
  • ISBN
    • 9784781301495
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    jpn
  • Text Language Code
    jpn
  • Place of Publication
    東京
  • Pages/Volumes
    vii, 317p
  • Size
    27cm
  • Classification
  • Subject Headings
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