プロセス速度 : 反応装置設計基礎論
Author(s)
Bibliographic Information
プロセス速度 : 反応装置設計基礎論
共立出版, 2010.4
- Other Title
-
Process rate : fundamentals of chemical reactor design
- Title Transcription
-
プロセス ソクド : ハンノウ ソウチ セッケイ キソロン
Available at / 64 libraries
-
No Libraries matched.
- Remove all filters.
Search this Book/Journal
Description and Table of Contents
Table of Contents
- 序章 プロセス速度を学ぶにあたって
- 第1章 回分法による反応速度解析
- 第2章 流通法による反応速度解析
- 第3章 理想流反応器の特性
- 第4章 非理想流反応器の特性
- 第5章 非等温場における反応器の特性
- 第6章 工業触媒反応
- 第7章 気体液体間の反応
- 第8章 流体固体間の反応
- 付録
by "BOOK database"