分子線エピタキシにおける化合物半導体の成長過程と成長層の特性

著者

• 大野, 英男 オオノ, ヒデオ

書誌事項

分子線エピタキシにおける化合物半導体の成長過程と成長層の特性

大野英男研究代表者

（科学研究費補助金(基盤研究(B)(2))研究成果報告書, 平成10-11年度）

[大野英男], 2000.3

タイトル別名

平成10-11年度科学研究費補助金(基盤研究(B)(2))研究成果報告書(研究課題番号10450002)

タイトル読み

ブンシセン エピタキシ ニオケル カゴウブツ ハンドウタイ ノ セイチョウ カテイ ト セイチョウソウ ノ トクセイ

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BB03539367
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpneng
• 出版地: [仙台]
• ページ数/冊数: 49p
• 大きさ: 30cm
• 親書誌ID:
  • BA30193701