フォトマスク : 電子部品製造の基幹技術

著者

書誌事項

フォトマスク : 電子部品製造の基幹技術

田邉功, 竹花洋一, 法元盛久共著

東京電機大学出版局, 2011.4

タイトル別名

Photomask technology

タイトル読み

フォトマスク : デンシ ブヒン セイゾウ ノ キカン ギジュツ

電子リソースにアクセスする 全1件

大学図書館所蔵 件 / 全50件

この図書・雑誌をさがす

注記

参考文献: 各章末

内容説明・目次

目次

  • 第１章　フォトマスク技術の基本
  • 第２章　半導体用フォトマスク
  • 第３章　電子部品用マスク
  • 第４章　先端フォトマスク技術
  • 第５章　ＮＧＬマスク技術
  • 第６章　マスク産業の現状
  • 第７章　リソグラフィ技術の今後とマスク技術の見通し

「BOOKデータベース」 より

詳細情報

  • NII書誌ID(NCID)
    BB05599166
  • ISBN
    • 9784501328207
  • 出版国コード
    ja
  • タイトル言語コード
    jpn
  • 本文言語コード
    jpn
  • 出版地
    東京
  • ページ数/冊数
    323p, 図版2枚
  • 大きさ
    21cm
  • 分類
  • 件名
ページトップへ