フォトマスク : 電子部品製造の基幹技術

著者

• 田辺, 功 タナベ, イサオ
• 竹花, 洋一 タケハナ, ヨウイチ
• 法元, 盛久 ホウガ, モリヒサ

書誌事項

フォトマスク : 電子部品製造の基幹技術

田邉功, 竹花洋一, 法元盛久共著

東京電機大学出版局, 2011.4

タイトル別名

Photomask technology

タイトル読み

フォトマスク : デンシ ブヒン セイゾウ ノ キカン ギジュツ

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• フォトマスク 電子部品製造の基幹技術

  2011.4.

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• フォトマスク

  2011

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注記

参考文献: 各章末

内容説明・目次

目次

• 第１章　フォトマスク技術の基本
• 第２章　半導体用フォトマスク
• 第３章　電子部品用マスク
• 第４章　先端フォトマスク技術
• 第５章　ＮＧＬマスク技術
• 第６章　マスク産業の現状
• 第７章　リソグラフィ技術の今後とマスク技術の見通し

「BOOKデータベース」 より

• NII書誌ID(NCID): BB05599166
• ISBN:
  • 9784501328207
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpn
• 出版地: 東京
• ページ数/冊数: 323p, 図版2枚
• 大きさ: 21cm
• 分類:
  • NDC8 : 549.7
  • NDC9 : 549.7
• 件名:
  • BSH : リソグラフィー