Bibliographic Information

EUV光源の開発と応用

豊田浩一, 岡崎信次監修

(CMCテクニカルライブラリー, 450 . エレクトロニクスシリーズ||エレクトロニクス シリーズ)

シーエムシー出版, 2013.3

普及版

Other Title

Development and application of extreme ultraviolet light source

Title Transcription

EUV コウゲン ノ カイハツ ト オウヨウ

Available at  / 28 libraries

Note

「EUV光源の開発と応用」(2007年刊)の普及版

文献: 各章末

Description and Table of Contents

Table of Contents

  • 第1編 EUV光源の開発(露光装置とEUVリソグラフィ;EUVリソグラフィ用光源プラズマ;プラズマ励起用高出力固体レーザー開発の現状;究極の変換効率の超微粒子広域分散型ターゲットレーザー生成プラズマX線源 ほか)
  • 第2編 EUVリソグラフィ用のマスクとレジスト技術(X線多層膜の物理;EUV用反射型マスク基板;EUV用マスク;EUVレジストの特異性と反応機構 ほか)

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Details

  • NCID
    BB12085089
  • ISBN
    • 9784781307091
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    jpn
  • Text Language Code
    jpn
  • Place of Publication
    東京
  • Pages/Volumes
    vi, 273p
  • Size
    26cm
  • Classification
  • Subject Headings
  • Parent Bibliography ID
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