Si基板上への気相エピタキシャル成長法による窒化物半導体の結晶成長に関する研究

著者

    • 本田, 善央 ホンダ, ヨシオ

書誌事項

Si基板上への気相エピタキシャル成長法による窒化物半導体の結晶成長に関する研究

本田善央 [著]

[出版者不明], [2002]

タイトル読み

Si キバンジョウ エノ キソウ エピタキシャル セイチョウホウ ニ ヨル チッカブツ ハンドウタイ ノ ケッショウ セイチョウ ニ カンスル ケンキュウ

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注記

名古屋大学2002年度博士論文

学位の種類: 博士(工学)

学位授与年月日: 2003-03-25

報告番号: 甲第5847号

学位記番号: 工博第1731号

詳細情報

  • NII書誌ID(NCID)
    BB13684952
  • タイトル言語コード
    jpn
  • 本文言語コード
    jpn
  • 出版地
    [出版地不明]
  • ページ数/冊数
    ii, 123p
  • 大きさ
    30cm
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