ヒューム・ロザリー電子濃度則の物理学 : FLAPW-Fourier理論による電子機能材料開発

著者

• 水谷, 宇一郎 ミズタニ, ウイチロウ
• 佐藤, 洋一 サトウ, ヒロカズ
• Hume-Rothery, William

書誌事項

ヒューム・ロザリー電子濃度則の物理学 : FLAPW-Fourier理論による電子機能材料開発

水谷宇一郎, 佐藤洋一共著

内田老鶴圃, 2015.10

タイトル別名

ヒュームロザリー電子濃度則の物理学 : FLAPWFourier理論による電子機能材料開発

タイトル読み

ヒューム・ロザリー デンシ ノウド ソク ノ ブツリガク : FLAPW-Fourier リロン ニヨル デンシ キノウ ザイリョウ カイハツ

注記

参考文献: 各章末

総索引: p223-226

欧字先頭語索引: p227-231

内容説明・目次

目次

• 第１章　ヒューム・ロザリー電子濃度則とは
• 第２章　ＷＩＥＮ２ｋを用いたＦＬＡＰＷ‐Ｆｏｕｒｉｅｒ解析法
• 第３章　周期律表元素の電子構造とｅ／ａの決定
• 第４章　結合形態による金属間化合物の分類
• 第５章　Ａｌ‐およびＺｎ‐基金属間化合物のヒューム・ロザリー電子濃度則
• 第６章　ジントル化合物のヒューム・ロザリー電子濃度則
• 第７章　Ｐ‐基金属間化合物のヒューム・ロザリー電子濃度則
• 第８章　ヒューム・ロザリー電子濃度則と干渉条件
• 第９章　ヒューム・ロザリー電子濃度則の材料開発への応用

「BOOKデータベース」 より

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BB19652405
• ISBN:
  • 9784753621019
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpn
• 出版地: 東京
• ページ数/冊数: xi, 231p
• 大きさ: 21cm
• 分類:
  • NDC9 : 563.6
  • NDC9 : 436
  • NDLC : PA225
• 件名:
  • NDLSH : 金属の電子論
  • NDLSH : 金属間化合物