水素終端シリコン表面における低温ヘテロエピタキシー

著者

• 尾浦, 憲治郎 オウラ, ケンジロウ

書誌事項

水素終端シリコン表面における低温ヘテロエピタキシー

研究代表者 尾浦憲治郎

（科学研究費補助金(基盤研究(A)(2))研究成果報告書, ; 平成6年度～平成8年度）

大阪大学工学部, 1997.3

タイトル読み

スイソ シュウタン シリコン ヒョウメン ニ オケル テイオン ヘテロ エピタキシー

注記

課題番号: 06402025

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BB26350869
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: eng
• 出版地: [吹田]
• ページ数/冊数: 1 冊
• 大きさ: 30 cm
• 親書誌ID:
  • BA30195718