酸化シリコンナノポーラス薄膜の低誘電率材料への応用

著者

• 内田, 和男 ウチダ, カズオ

書誌事項

酸化シリコンナノポーラス薄膜の低誘電率材料への応用

研究代表者 内田和男

（科学研究費補助金基盤研究(C)(2)研究成果報告書, 平成11年度-平成12年度）

[電気通信大学], 2001.3

タイトル読み

サンカ シリコン ナノ ポーラス ハクマク ノ テイユウデンリツ ザイリョウ エノ オウヨウ

注記

課題番号: 11650317

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BB26402088
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpn
• 出版地: [調布]
• ページ数/冊数: 61p
• 大きさ: 30cm
• 親書誌ID:
  • BA30195401