酸化シリコンナノポーラス薄膜の低誘電率材料への応用

著者

    • 内田, 和男 ウチダ, カズオ

書誌事項

酸化シリコンナノポーラス薄膜の低誘電率材料への応用

研究代表者 内田和男

(科学研究費補助金基盤研究(C)(2)研究成果報告書, 平成11年度-平成12年度)

[電気通信大学], 2001.3

タイトル読み

サンカ シリコン ナノ ポーラス ハクマク ノ テイユウデンリツ ザイリョウ エノ オウヨウ

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注記

課題番号: 11650317

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詳細情報

  • NII書誌ID(NCID)
    BB26402088
  • 出版国コード
    ja
  • タイトル言語コード
    jpn
  • 本文言語コード
    jpn
  • 出版地
    [調布]
  • ページ数/冊数
    61p
  • 大きさ
    30cm
  • 親書誌ID
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