塗布・乾燥技術の基礎とものづくり : 新素材の利用と次世代デバイスへの展開

著者

書誌事項

塗布・乾燥技術の基礎とものづくり : 新素材の利用と次世代デバイスへの展開

化学工学会関東支部編 ; 化学工学会材料・界面部会著

(最近の化學工學, 68)

化学工学会関東支部 , 三恵社 (発売), 2020.1

タイトル別名

塗布乾燥技術の基礎とものづくり : 新素材の利用と次世代デバイスへの展開

タイトル読み

トフ カンソウ ギジュツ ノ キソ ト モノズクリ : シンソザイ ノ リヨウ ト ジセダイ デバイス エノ テンカイ

大学図書館所蔵 件 / 34

この図書・雑誌をさがす

注記

参考文献あり

内容説明・目次

目次

  • 種々の塗布方式の歴史と変遷
  • 塗布流動の基礎
  • レオロジーの基礎
  • スラリー分散・凝集制御
  • ナノ粒子の表面設計による液中分散制御
  • 流れと表面張力
  • スロットダイ塗布
  • グラビア塗布の概要およびプロセス管理
  • 電子線の産業利用
  • 赤外線を用いた塗布膜乾燥プロセスの特徴と効果
  • 最近の学術動向と計測評価手法の進展
  • 印刷型有機集積回路と応用展開
  • ウエラブル・デバイスの印刷形成と材料に求められる課題
  • 微細印刷のパターニング原理と応用プロセス
  • 二次電池、燃料電池の電極スラリーモデルのレオロジー
  • クレースト:ソリューションキャスティングによる高付加価値製品開発
  • セルロースナノファイバーの調整とフィルム特性
  • ポリマー溶液塗膜乾燥の理論と計算
  • 塗布乾燥シミュレーション
  • 塗布乾燥シミュレーション
  • 乾燥に伴う界面変形:液液および固液界面での物質移動

「BOOKデータベース」 より

関連文献: 1件中  1-1を表示

  • 最近の化學工學

    丸善 : 化学工学会 : 化学工業社 1951.6-

    1950 , 1951 , 1952 , 1953 , 1954 , 1955 , 1956 , 1957 , 1958 , 1959 , 1960 , 1961 , 1962 , 1963 , 1964 , 1965 , 1966 , 1967 , 1968 , 1969 , 1970 , 1971 , 1972

    所蔵館124館

詳細情報

  • NII書誌ID(NCID)
    BB29709644
  • ISBN
    • 9784866931746
  • 出版国コード
    ja
  • タイトル言語コード
    jpn
  • 本文言語コード
    jpn
  • 出版地
    東京,名古屋
  • ページ数/冊数
    vi, 250p
  • 大きさ
    26cm
  • 分類
  • 件名
  • 親書誌ID
ページトップへ