最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術
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最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術
(CMCテクニカルライブラリー, 840 . エレクトロニクスシリーズ||エレクトロニクス シリーズ)
シーエムシー出版, 2024.8
普及版
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Advanced technologies for functional resist materials and process optimization
- Title Transcription
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サイシン フォトレジスト ザイリョウ カイハツ ト プロセス サイテキカ ギジュツ
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Note
2017年刊の普及版
文献: 章末
背に「TL840」とあり
奥付・背・裏表紙に「B1438」とあり
Description and Table of Contents
Table of Contents
- 第1編 総論
- 第2編 フォトレジスト材料の開発
- 第3編 フォトレジスト特性の最適化と周辺技術
- 第4編 材料解析・評価
- 第5編 応用展開
- 第6編 レジスト処理装置
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