最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術
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最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術
（CMCテクニカルライブラリー, 840 . エレクトロニクスシリーズ||エレクトロニクス シリーズ）
シーエムシー出版, 2024.8
普及版
- タイトル別名
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Advanced technologies for functional resist materials and process optimization
- タイトル読み
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サイシン フォトレジスト ザイリョウ カイハツ ト プロセス サイテキカ ギジュツ
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注記
2017年刊の普及版
文献: 章末
背に「TL840」とあり
奥付・背・裏表紙に「B1438」とあり
内容説明・目次
目次
- 第１編 総論
- 第２編 フォトレジスト材料の開発
- 第３編 フォトレジスト特性の最適化と周辺技術
- 第４編 材料解析・評価
- 第５編 応用展開
- 第６編 レジスト処理装置
「BOOKデータベース」 より
