二次イオン質量分析法

Author(s)

    • 日本表面真空学会 ニホン ヒョウメン シンクウ ガッカイ

Bibliographic Information

二次イオン質量分析法

日本表面真空学会編

（表面分析技術選書）

丸善出版, 2025.5

第2版

Other Title

Secondary ion mass spectrometry

SIMS

二次イオン質量分析法

Title Transcription

ニジ イオン シツリョウ ブンセキホウ

Available at  / 60 libraries

Note

表現種別: テキスト (ncrcontent), 機器種別: 機器不用 (ncrmedia), キャリア種別: 冊子 (ncrcarrier)

初版: 丸善 1999年刊

その他のタイトルはブックジャケットによる

引用・参考文献: 各章末

Description and Table of Contents

Description

二次イオン質量分析法（ＳＩＭＳ）は、試料表面にイオンビームを照射し、飛び出した二次イオンの質量を検出して物質を同定し、さらに各物質の試料中での分布をイメージングする手法である。金属や半導体から高分子材料、生体試料にも適用できる分析法として、多くの研究分野で活用されている。２５年ぶりの大改訂となる本書では、重要性の高い基礎的な内容だけでなく、目的別の応用例を大幅に拡充。これからＳＩＭＳを使い始める学生はもちろん、現場の実務者にとっても有用な手引きとなる一冊。

Table of Contents

  • １　二次イオン質量分析法（ＳＩＭＳ）とは何か（なぜＳＩＭＳで表面分析ができるのか；なぜＳＩＭＳで深さ方向分析ができるのか　ほか）
  • ２　ＳＩＭＳの原理（スパッタリング収率；二次イオン化率と二次イオン収率　ほか）
  • ３　ＳＩＭＳ装置の基礎（装置の概略；一次イオン照射系　ほか）
  • ４　ＳＩＭＳによる測定の実際（試料の準備；無機物の定性分析　ほか）
  • ５　ＳＩＭＳの応用・発展（無機物・金属・半導体の測定および元素分析；有機物・高分子の測定　ほか）

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