ドライプロセス応用技術 : 超微細素子の製法

Author(s)

• 小林, 春洋 コバヤシ, ハルヒロ

Bibliographic Information

ドライプロセス応用技術 : 超微細素子の製法

小林春洋〔ほか〕著

日刊工業新聞社, 1984.7

Title Transcription

ドライ プロセス オウヨウ ギジュツ : チョウビサイ ソシ ノ セイホウ

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• ドライプロセス応用技術 : 超微細素子の製法

  1984

  NDL Digital Collections

  Limited

Details

• NCID: BN00036182
• ISBN:
  • 4526017442
• Country Code: ja
• Title Language Code: jpn
• Text Language Code: jpn
• Place of Publication: 東京
• Pages/Volumes: 199,6p
• Size: 22cm
• Classification:
  • NDC8 : 549.8
  • NDLC : ND354
• Subject Headings:
  • NDLSH : 電子部品
  • NDLSH : 薄膜
  • NDLSH : 印刷回路