ドライプロセス応用技術 : 超微細素子の製法

著者

• 小林, 春洋 コバヤシ, ハルヒロ

書誌事項

ドライプロセス応用技術 : 超微細素子の製法

小林春洋〔ほか〕著

日刊工業新聞社, 1984.7

タイトル読み

ドライ プロセス オウヨウ ギジュツ : チョウビサイ ソシ ノ セイホウ

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• ドライプロセス応用技術 : 超微細素子の製法

  1984

  NDLデジタルコレクション

  限定公開

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BN00036182
• ISBN:
  • 4526017442
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpn
• 出版地: 東京
• ページ数/冊数: 199,6p
• 大きさ: 22cm
• 分類:
  • NDC8 : 549.8
  • NDLC : ND354
• 件名:
  • NDLSH : 電子部品
  • NDLSH : 薄膜
  • NDLSH : 印刷回路