プロセスの低温化

著者

• 西澤, 潤一 ニシザワ, ジュンイチ

書誌事項

プロセスの低温化

西澤潤一編

（半導体研究 / 半導体研究振興会編, 21巻 . 超LSI技術||チョウ LSI ギジュツ ; 8）

工業調査会, 1985.3

タイトル読み

プロセス ノ テイオンカ

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• 半導体研究 (21巻)

  1985

  NDLデジタルコレクション

  限定公開

注記

執筆: 石川潔ほか

各章末: 参考文献

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BN00282757
• ISBN:
  • 4769310439
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpn
• 出版地: 東京
• ページ数/冊数: 10, 331p, 挿図
• 大きさ: 27cm
• 分類:
  • NDC8 : 549
  • NDLC : ND371
• 件名:
  • NDLSH : 半導体
• 親書誌ID:
  • BN00178314