プロセスの低温化

Author(s)

• 西澤, 潤一 ニシザワ, ジュンイチ

Bibliographic Information

プロセスの低温化

西澤潤一編

（半導体研究 / 半導体研究振興会編, 21巻 . 超LSI技術||チョウ LSI ギジュツ ; 8）

工業調査会, 1985.3

Title Transcription

プロセス ノ テイオンカ

Access to Electronic Resource 1 items

• 半導体研究 (21巻)

  1985

  NDL Digital Collections

  Limited

Note

執筆: 石川潔ほか

各章末: 参考文献

Details

• NCID: BN00282757
• ISBN:
  • 4769310439
• Country Code: ja
• Title Language Code: jpn
• Text Language Code: jpn
• Place of Publication: 東京
• Pages/Volumes: 10, 331p, 挿図
• Size: 27cm
• Classification:
  • NDC8 : 549
  • NDLC : ND371
• Subject Headings:
  • NDLSH : 半導体
• Parent Bibliography ID:
  • BN00178314