VLSIの薄膜技術

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VLSIの薄膜技術

伊藤隆司, 石川元, 中村宏昭共著

（電子材料シリーズ）

丸善, 1986.9

Title Transcription

VLSI ノ ハクマク ギジュツ

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Note

各章末:文献

Description and Table of Contents

Description

今日のＶＬＳＩの進展は著しく、それを支える薄膜技術は多様化を極め、対象となる材料も絶縁物、半導体、金属、有機材料と多岐にわたっています。また、新しい薄膜技術の研究開発にも目覚しいものがあり、次の世代のトータルプロセスの中でその位置づけを把握することが不可欠となっています。本書は、現在使われている技術の単なる解説にとどまらず技術の流れと将来のデバイスの製造に向けての課題をも著し、薄膜技術の全貌を分かりやすく解説するものです。

Table of Contents

  • １　ＶＬＳＩにおける薄膜の役割
  • ２　酸化
  • ３　ＣＶＤ膜の形成と物性
  • ４　高誘電率絶縁膜の形成と物性
  • ５　金属薄膜の形成法
  • ６　高融点金属薄膜
  • ７　シリサイド薄膜
  • ８　アルミニウムとその合金
  • ９　多層配線技術

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Details

  • NCID
    BN00435789
  • ISBN
    • 4621031120
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    jpn
  • Text Language Code
    jpn
  • Place of Publication
    東京
  • Pages/Volumes
    xii, 250p
  • Size
    22cm
  • Classification
  • Subject Headings
  • Parent Bibliography ID
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