VLSIの薄膜技術

著者

• 伊藤, 隆司 イトウ, タカシ
• 石川, 元 イシカワ, ハジメ
• 中村, 宏昭 ナカムラ, ヒロアキ

書誌事項

VLSIの薄膜技術

伊藤隆司, 石川元, 中村宏昭共著

（電子材料シリーズ）

丸善, 1986.9

タイトル読み

VLSI ノ ハクマク ギジュツ

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• VLSIの薄膜技術

  1986

  NDLデジタルコレクション

  限定公開

注記

各章末:文献

内容説明・目次

内容説明

今日のＶＬＳＩの進展は著しく、それを支える薄膜技術は多様化を極め、対象となる材料も絶縁物、半導体、金属、有機材料と多岐にわたっています。また、新しい薄膜技術の研究開発にも目覚しいものがあり、次の世代のトータルプロセスの中でその位置づけを把握することが不可欠となっています。本書は、現在使われている技術の単なる解説にとどまらず技術の流れと将来のデバイスの製造に向けての課題をも著し、薄膜技術の全貌を分かりやすく解説するものです。

目次

• １　ＶＬＳＩにおける薄膜の役割
• ２　酸化
• ３　ＣＶＤ膜の形成と物性
• ４　高誘電率絶縁膜の形成と物性
• ５　金属薄膜の形成法
• ６　高融点金属薄膜
• ７　シリサイド薄膜
• ８　アルミニウムとその合金
• ９　多層配線技術

「BOOKデータベース」 より

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BN00435789
• ISBN:
  • 4621031120
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpn
• 出版地: 東京
• ページ数/冊数: xii, 250p
• 大きさ: 22cm
• 分類:
  • NDC8 : 549.7
  • NDC7 : 549.8
  • NDLC : ND386
• 件名:
  • BSH : 集積回路
  • BSH : 薄膜
  • NDLSH : 集積回路
  • NDLSH : 薄膜
• 親書誌ID:
  • BN00201165